国家知识产权局公布《集成电路布图设计保护条例实施细则》，2026年10月30日起施行
国家知识产权局公布局令第八十六号《集成电路布图设计保护条例实施细则》，该细则已于2026年9月14日经第6次局务会议审议通过，自2026年10月30日起施行。国家知识产权局同时提供了关于修订该实施细则的说明链接。
推荐理由：修订后的实施细则经局务会议通过并公布，自2026年10月30日起施行，涉及布图设计登记与保护的具体办理要求。
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国家知识产权局精选AI 评分6767 国家知识产权局精选AI 评分6262 国家知识产权局发布施行修订后《集成电路布图设计保护条例》审查业务过渡办法，自2026年10月15日起施行
国家知识产权局发布第694号公告，公布《关于施行修订后〈集成电路布图设计保护条例〉相关审查业务处理过渡办法》，自2026年10月15日起施行。办法以申请日2026年10月15日为界，该日及以后提交的布图设计登记申请及由此产生的专有权适用修订后条例，此前申请适用修订前条例，但办法另有特殊规定的除外。
推荐理由：过渡办法以申请日2026年10月15日为界划分新旧条例适用，代理机构需据此判断在办布图设计申请适用哪套审查规则。
国家知识产权局精选AI 评分6060 李顺德解读修订后《集成电路布图设计保护条例》新增的独创性声明制度
中国社会科学院法学研究所李顺德解读2026年7月国务院公布、自2026年10月15日起施行的修订后《集成电路布图设计保护条例》，此次修订新增独创性声明要求，该声明成为布图设计申请登记必须提交的法定文件。
推荐理由：修订后条例新增独创性声明这一法定登记文件，申请人需在登记阶段明确划定独创性部分，代理机构可据此调整撰写与举证准备。
国家知识产权局精选AI 评分7373 专家解读修订后《集成电路布图设计保护条例》：删除半导体限定并强化登记要求
中国人民大学知识产权学院郭禾解读修订后的《集成电路布图设计保护条例》，指出修订删除了与集成电路定义相关条文中的半导体集成电路字样，将集成光子、量子等功能的集成电路布图设计纳入保护范围。
推荐理由：专家逐条解读修订后条例的登记要求与保护范围变化，布图设计申请人和代理机构可据此调整图样提交与独创性声明写法。
国家知识产权局精选AI 评分7878 司法部、国家知识产权局就修订后《集成电路布图设计保护条例》答记者问
国务院第842号令公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》，自2026年10月15日起施行，司法部、国家知识产权局负责人就修订内容答记者问。修订后登记申请须以真实创作活动为基础，增加独创性声明要求，明显不符合规定的应驳回，登记后任何人可请求撤销，被撤销的专有权视为自始不存在。侵权赔偿按实际损失或侵权获利确定，难以确定的参照许可使用费倍数，情节严重的适用惩罚性赔偿。
推荐理由：修订条例新增独创性声明与撤销程序，并明确惩罚性赔偿，布图设计权利人和代理机构需按新登记要求准备材料。
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