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国家知识产权局·· 2026-08-03AI 评分78

清华学者解读修订后《集成电路布图设计保护条例》四项变化

专家解读 | 我国集成电路布图设计保护制度的最新发展

AI 导读

清华大学法学院崔国斌解读我国修订后的《集成电路布图设计保护条例》,指出新条例引入依第三方请求撤销登记程序、新增创作布图设计的奖酬措施、完善侵权损害赔偿规则并引入1倍以上5倍以下惩罚性赔偿、配套完善保密要求及法律责任。

来源:国家知识产权局 · cnipa.gov.cn