国家知识产权局就修订后《集成电路布图设计保护条例》审查业务过渡办法作出说明
国家知识产权局发布《关于施行修订后〈集成电路布图设计保护条例〉相关审查业务处理过渡办法》的说明，该过渡办法共十条，自2026年10月15日条例施行之日起施行。过渡办法明确审查业务原则上不溯及既往，并规定自施行之日起，外国申请人须按条例第五条第二款办理强制代理，新申请须提交独创性声明等文件。
#政策解读
国家知识产权局AI 评分6767 国家知识产权局AI 评分7575 国家知识产权局发布修订后《集成电路布图设计保护条例实施细则》，自2026年10月30日起施行
国家知识产权局以第八十六号局令公布修订后的《集成电路布图设计保护条例实施细则》，共7章56条，自2026年10月30日起施行，以保障2026年10月15日起施行的修订后条例落地。
国家知识产权局精选AI 评分6060 李顺德解读修订后《集成电路布图设计保护条例》新增的独创性声明制度
中国社会科学院法学研究所李顺德解读2026年7月国务院公布、自2026年10月15日起施行的修订后《集成电路布图设计保护条例》，此次修订新增独创性声明要求，该声明成为布图设计申请登记必须提交的法定文件。
推荐理由：修订后条例新增独创性声明这一法定登记文件，申请人需在登记阶段明确划定独创性部分，代理机构可据此调整撰写与举证准备。
国家知识产权局AI 评分7878 专家解读新修订《集成电路布图设计保护条例》：集成光子、量子布图设计纳入保护
国务院公布新修订的《集成电路布图设计保护条例》，这是该条例20多年来首次系统性修订，修订涉及扩展保护范围、完善申请登记程序、加大侵权赔偿、促进布图设计运用等方面。
国家知识产权局精选AI 评分7373 专家解读修订后《集成电路布图设计保护条例》：删除半导体限定并强化登记要求
中国人民大学知识产权学院郭禾解读修订后的《集成电路布图设计保护条例》，指出修订删除了与集成电路定义相关条文中的半导体集成电路字样，将集成光子、量子等功能的集成电路布图设计纳入保护范围。
推荐理由：专家逐条解读修订后条例的登记要求与保护范围变化，布图设计申请人和代理机构可据此调整图样提交与独创性声明写法。
国家知识产权局AI 评分7878 清华学者解读修订后《集成电路布图设计保护条例》四项变化
清华大学法学院崔国斌解读我国修订后的《集成电路布图设计保护条例》，指出新条例引入依第三方请求撤销登记程序、新增创作布图设计的奖酬措施、完善侵权损害赔偿规则并引入1倍以上5倍以下惩罚性赔偿、配套完善保密要求及法律责任。
国家知识产权局精选AI 评分7878 司法部、国家知识产权局就修订后《集成电路布图设计保护条例》答记者问
国务院第842号令公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》，自2026年10月15日起施行，司法部、国家知识产权局负责人就修订内容答记者问。修订后登记申请须以真实创作活动为基础，增加独创性声明要求，明显不符合规定的应驳回，登记后任何人可请求撤销，被撤销的专有权视为自始不存在。侵权赔偿按实际损失或侵权获利确定，难以确定的参照许可使用费倍数，情节严重的适用惩罚性赔偿。
推荐理由：修订条例新增独创性声明与撤销程序，并明确惩罚性赔偿，布图设计权利人和代理机构需按新登记要求准备材料。
国家知识产权局精选AI 评分8585 国家知识产权局解读修改后的《专利优先审查管理办法》
国家知识产权局就修改后的《专利优先审查管理办法》作出说明，该办法以国家知识产权局令第八十五号公布，自2026年9月1日起施行，共24条、分六章。修改聚焦新兴产业和未来产业领域的高质量申请，明确了不予优先审查的情形，并规范省级知识产权局推荐工作与优先审查数量分配管理。办法还完善了现有技术材料提交要求，明确优先审查服务不收取额外费用。
推荐理由：修改后的办法调整了优先审查适用条件与推荐管理机制，代理机构需据此调整请求材料与提交安排。